Page 40 - 《摩擦学学报》2020年第6期
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第 6 期                        黄静飞, 等: CMP加工后芯片三维形貌表征参数体系                                      723

                  0.9
                                                                                                    S sk
                                                                     4
                  0.8
                                                                                                    S ku
                                                                     3
                  0.7
                 S a , S q /nm  0.6                                 S sk , S ku  2
                  0.5                                                1
                                                  S q
                  0.4                                                0
                                                  S a
                  0.3                                               −1
                    0   5  10  15  20  25  30  35  40  45  50         0   5  10  15  20  25  30  35  40  45
                             Surface wear rate/%                                 Surface wear rate/%
                 (a) Variation of parameterand S q  and parameter S a  (b) Variation of parameterand S ku  and parameter S sk

                               Fig. 8  Surface microtopography numerical simulation amplitude parameter change
                                            图 8    表面微观形貌数值模拟幅度参数变化


                  278.620                                            1.000
                  278.618
                                                                     0.995
                  278.616
                S al                                                S tr
                  278.614
                                                                     0.990
                  278.612

                  278.610                                            0.985
                       0  5  10  15  20  25  30  35  40  45  50          0  5  10  15  20  25  30  35  40  45  50
                               Surface wear ratio/%                              Surface wear ratio/%
                           (a) Variation of parameter S al                   (b) Variation of parameter S tr

                          Fig. 9  Surface micro-topography numerical simulation of spatial parameters  S al  and  S tr  changes
                                                                         和
                                         图 9    表面微观形貌数值模拟空间参数         S al S tr 变化
            值趋近相等. 空间参数是用来描述空间相关的属性,                                   7
            反映表面的纹理,可知在芯片磨损过程中表面整体形                                    6
            貌的空间状态没有剧烈变化的情况下,空间参数是稳                                    5        S dq
            定的,空间参数在芯片表征评定中主要作为表面类型                                   S dq , S dr  4

            的判定.                                                       3
                                                                                S dr
                图10表示混合参数        S dq 和 S dr 在仿真加工中的变化                 2
            情况,混合参数       S dq 随着峰值的减小,表面凸峰曲率逐                         1
            渐减小,参数数值呈下降趋势,混合参数                 S dr 越接近1表              0
                                                                        0  5  10  15  20  25  30  35  40  45
            明表面越光滑,仿真过程中            S dr 参数值逐渐趋近1,符合                           Surface wear ratio/%

            仿真过程,利用混合参数表征芯片表面形貌加工具有                                    Fig. 10    Mixing parameters  S dq  and  S dr
            现实意义. 图11表示分形参数D在仿真加工中的参数                                     图 10    混合参数 S dq S dr 变化
                                                                                          和
            值变化,分形参数表示表面整体复杂程度,可见其不
                                                               4    结论
            受部分幅值减小的影响,整体形貌稳定的情况下,分
            形参数值较为稳定.                                              a. 分析了CMP加工的芯片表面微观形貌的几何
                综合以上分析,通过幅度参数、空间参数、综合参                         特征和表面特性. CMP加工后的芯片表面是由凸峰和
            数和分形参数建立的芯片表面形貌评定体系能够从                             凹坑平均分布组成的,其凸峰和凹坑的分布比例接近
            多方面表征芯片表面形貌特征,对表面形貌参数评定                            1:1;研究了CMP加工后芯片表面形貌的幅值分布,结
            具有可行性.                                             果显示其概率密度曲线近似服从高斯分布.
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