Page 34 - 《摩擦学学报》2021年第4期
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第 4 期                      卢铜钢, 等: 洛伦兹力与温度场作用下枢轨摩擦磨损特性                                       477

                                                                  0.25
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                                           Lorentz force
               200                         Contact force          0.20
              Force/kN  150                                      Contact resistance/mΩ  0.15

               100
                50                                                0.10
                                                                  0.05
                 0
                 0.000 0  0.000 5  0.001 0  0.001 5  0.002 0        0.000 0  0.000 5  0.001 0  0.001 5  0.002 0
                                  Time/s                                              Time/s
                          (a) Contact pressure vs time                       (b) Contact resistance vs time

                              Fig. 4  Contact pressure and contact resistance between armature and rails with time
                                        图 4    枢轨间接触压力和接触电阻随时间的变化曲线

            运动,枢轨之间接触面位置随电枢的运动是不断变化                            柱状图如图5所示. 由于枢轨间形成的接触电阻在轨
            的,且枢轨之间的热量也按分配系数分别传递到轨道                            道接触带上的位置是时刻不断发生变化的,因此依据
            和电枢的接触表面. 在电枢运动过程中,电枢接触表                           图1(b)中位移曲线,将轨道长度按每0.1 ms内电枢位
            面上的热量随发射时间不断累积,而轨道上传递的热                            移的距离进行离散化处理,即将整体轨道离散化为
            载荷却随接触位置改变发生变化. 因此,电枢和轨道                           18段,同时将接触面产生的热量也以每0.1 ms的间隔
            接触面上的热载荷设置需要分情况讨论进行分析.                             进行离散化处理,将每段对应的平均热流量施加到对
                轨道接触表面分布的平均热流量和位移离散化                           应的轨道表面上.


                                                                    200
                  16
                  14                                                150
                 Average heat flux/10 6  W  10 8 6 4               Displacement/mm  100
                  12



                                                                     50


                   0 2                                                0
                     1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18       1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18
                                   Part/N                                              Part/N
                        (a) Histogram of average heat flow                    (b) Histogram of displacement
                                      Fig. 5  Histogram between average heat flow and displacement
                                               图 5  平均热流量与位移之间柱状图

                电枢接触表面焦耳热流总量和离散后摩擦热流                           场和应力场的数值计算.

            量分别如图6和图7所示. 在电枢运动过程中,电枢表                          2.2    计算结果分析
            面始终与轨道接触,因此接触电阻生热和摩擦热在电                                电枢出膛时刻(1.8 ms时刻)轨道接触表面温度场
            枢表面是1个累积过程. 在计算分析电枢表面温度场                           分布情况如图8所示. 观察图像可以发现,电枢出膛
            时,首先利用有限元软件Maxwell瞬态场计算电枢体                         后,轨道整体温度分布不均匀,整条导轨上温度场呈
            的电流密度,其中电枢表面设置0.5 mm薄层模拟接触                         阶梯状分布,且最高温度区域出现在电枢发射初始阶

            电阻,接触电阻设置为0.045 mΩ;然后将电流密度数                        段,最高温度为553.04 ℃. 图9为沿轨道发射方向轨道
            据传导至ANSYS Workbench有限元分析软件瞬态温                      表面温度曲线. 由图9中曲线可以看出,轨道接触面上
            度场分析模块中,同时将离散化摩擦热流密度施加到                            的温度明显上升,同时在初始位置出现了两次温度峰
            电枢接触表面;最后设置边界条件对电枢体进行温度                            值,第一次峰值是由于电流短时间内达到峰值引起,
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