Page 19 - 摩擦学学报2025年第5期
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第 5 期                  冯海燕, 等: 油田环境下Si/N-DLC涂层的摩擦磨损行为及润滑机理                                   653


                (a)                            (b)                             (c)
                     Si 100 /N 0                    Si 60 /N 40                     Si 20 /N 80

                   Intensity/a.u.  Si 80 /N 20  D peak  G peak  Intensity/a.u.  Si 40 /N 60  D peak  G peak  Intensity/a.u.  Si 0 /N 100  D peak  G peak







                  800  1 000 1 200 1 400 1 600 1 800 2 000  800  1 000 1 200 1 400 1 600 1 800 2 000  800  1 000 1 200 1 400 1 600 1 800 2 000
                          Wavenumber/cm −1                Wavenumber/cm −1               Wavenumber/cm −1
                (d)                            (e)                             (f)
               1 550                           0.72                             185
                                       1 543.9  0.64                   0.638    180  180.8
                                    1 539.2
               G position/cm −1 1 540  1 528.9 1 533.3  I D /I G  0.56  0.511  0.541  0.573  0.581  FWHM G /cm −1  175  177.2  174.8
                               1 537.1
               1 530

                    1 519.5
               1 520
                                               0.48
                                                    0.443                       170            170.1 169.9  169.5
               1 510                           0.40                             165
                   Si 100 /N 0  Si 80 /N 20  Si 60 /N 40  Si 40 /N 60  Si 20 /N 80  Si 0 /N 100  Si 100 /N 0  Si 80 /N 20  Si 60 /N 40  Si 40 /N 60  Si 20 /N 80  Si 0 /N 100  Si 100 /N 0  Si 80 /N 20  Si 60 /N 40  Si 40 /N 60  Si 20 /N 80  Si 0 /N 100

                  Fig. 3    Raman spectra and the corresponding fitted results of the Si/N-DLC coatings under the different SiH 4 /N 2  ratio:
                                     (a~c) Raman spectra; (d) G peak position; (e) I D /I G ; (f) FWHM G
                             图 3    不同SiH 4 /N 2 流量比条件下沉积的Si/N-DLC涂层的Raman光谱及其拟合结果:
                                         (a~c) Raman光谱;(d) G峰位置;(e) I D /I G ;(f) FWHM G

                    (a)             C 1s                           (b)                            2.15
                                                                      Si 100 /N 0  90.87  Si  6.98  O
                              Si 100 /N 0  Si 40 /N 60
                              Si 80 /N 20  Si 20 /N 80                          91.66    2.14  4.30  1.90
                              Si 60 /N 40  Si 0 /N 100                Si 80 /N 20
                      Intensity/a.u.  N 1s  Ar 2p  Si 2p              Si 60 /N 40  89.94  4.41  3.77  1.88  1.59

                                                                                                2.78
                                                                                         5.25
                                                                              90.39
                                                                      Si 40 /N 60
                                                                                91.32      5.72  1.50
                                                                      Si 20 /N 80                    1.46
                        O 1s                                          Si 0 /N 100  C  92.71  N  6.37  0.92
                      600  500  400  300  200  100  0                     0     4 88    92    96    100
                              Binding energy/eV                                Atomic fraction of element/%
                     Fig. 4    (a) XPS survey and (b) element atom fraction of the Si/N-DLC films under the different SiH 4 /N 2  ratio
                                        图 4    Si/N-DLC涂层的(a)XPS全谱和(b)元素原子分数

                结合强度是影响Si/N-DLC涂层的使用稳定性和                       可靠的结合,并且减小SiH /N 流量比可有效提升了
                                                                                         2
                                                                                      4
            腐蚀环境下的耐久性关键因素,因此,对上述Si/N-DLC                       316L SS基底与涂层之间的结合强度. 1个重要因素在
            涂层与316L SS基底结合强度进行表征,划痕光学照                         于涂层硬度的降低,如图6(c)所示,这改善了涂层与基
            片局部放大照片及相应的临界载荷如图7所示. 绿色                           底(硬度约为4 GPa)之间的硬度失配问题. 此外,Lc1到
            虚线和红色虚线分别代表初始剥落点(首次出现裂纹                            Lc3之间的区间长度可直接反映Si/N-DLC涂层的韧

            的临界载荷,Lc1)和最终失效点(基底暴露的临界载                          性. 在本文中,所制备的Si/N-DLC涂层316L SS涂层Lc1
            荷,Lc3). 随着SiH /N 流量比的减小,结合强度逐渐增                    到Lc3之间的区间长度随着SiH /N 流量比的减小而逐
                              2
                                                                                         4
                                                                                            2
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            加,其Lc1范围为15.9~19.0 N,Lc3最高可达28.6 N,表               渐增大,表明了涂层韧性的增强,主要归因于N掺杂
            明所制备的Si/N-DLC涂层与316L SS基底之间具有                      量的增加. 具体而言,N元素与DLC涂层碳基体中的碳
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