Page 7 - 《真空与低温》2025年第3期
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278 真空与低温 第 31 卷 第 3 期
0 引言 体管功能实现的基础。
1.1 电子发射机制
当前的电子器件主要分为两类:真空电子器件
在微纳空气沟道晶体管中,主要的电子发射机
[1]
与半导体电子器件 。前者中的电子在真空中弹
制主要包括热电子发射、肖特基发射和场发射等。
道输运,具备大功率、高效率和抗辐照等性能优势,
热电子发射是指电子在获得足够热能后,克服
但需要高真空环境和较长时间的预热,在集成化、
阴极与空气的界面势垒进入空气沟道的过程。这
可靠性及批量生产等方面也存在限制;半导体电子
一现象通常在高温条件下发生,以纳米晶金刚石为
器件采用先进微纳工艺,可集成化和晶圆级制备,
[8]
例,热电子发射的发生温度超过了 700 ℃ 。图 1(a)
但因材料中存在缺陷、空位、掺杂等因素,导致电
展示了金属-空气沟道-金属结构中热电子发射的
子平均自由程短、载流子迁移率小,在功率、频率、
[9]
能带示意图。热电子发射电流密度表示为 :
效率及抗辐射等方面遭遇瓶颈。同时,半导体器件
( Φ )
2
的尺寸缩小也已经逼近物理与工艺极限。因此,国 J = λ R AT exp − (1)
kT
际学术界持续探索新的电子器件技术路径。
式中:J 为电流密度;T 为温度;λ R 为材料特定的
真空电子器件的性能优势本质上源于真空介 修正系数;A 为理查森常数,值为 1.2×10 A·m ·K ;
−2
6
−2
质的特性,不存在缺陷、晶格碰撞和能量耗散,电 k 为玻尔兹曼常数;Φ 为发射极的功函数。根据
子的饱和速度接近光速 [2-3] 。半导体器件技术的快 式(1),ln( J/T )与 1/T 之间的线性关系表明了热电
2
速发展则源于凝聚态物理和微纳工艺加工技术的 子发射的特征。
进步。若能融合这两类器件的优势,通过微纳工艺 肖特基发射是指在电场作用下,阴极与空气界
技术将固态的电子输运沟道“挖空”,使沟道尺寸 面间的势垒降低,使得阴极电子获得足够能量以越
[4]
降至电子平均自由程(一般在 68 nm )以下,便可 过势垒并进入空气沟道的过程。该现象主要在低
构造出一种全新的“微纳空气沟道晶体管”。该晶 电压条件下发生,此时能带弯曲程度不足以触发场
体管无需真空环境,能在大气压下实现电子在空气 发射,但与温度密切相关。肖特基发射的能带示意
沟道中的弹道输运 [5-6] 。理论上能够实现高频率、 图如图 1(b)所示。肖特基发射的电流密度表达式
高功率、高效率、抗辐照、晶圆级制备与易集成等 如式(2) [10-11] :
性能 。这种构型的晶体管获得了美国物理学会、 ( ε r E 1/2 )
[7]
2
J SE = AT exp Φ− (2)
三角研究中心、《Nature》和《Science》等权威机构与 kT
期刊的高度认可,被认为具有重要的研究意义,特别 式中:Φ 为电极功函数;ε r 为电极的相对介电常数;
是在推动高频高速应用方面具有显著价值。正因 E 为外加电场。由式(2)可知,在恒温下 ln(J SE )与
1/2
上述独特优势,美国 NASA、圣地亚国家实验室等 E 的线性关系表示肖特基发射。
机构设立了一系列计划以支持该晶体管研究,国内 Fowler 和 Nordheim 在 1928 年提出了用于描
多家科研单位也开展相关研究,均取得了重要进展。 述 0 K 时无限大金属平面上电子场发射的理论,即
基于该现状,本文将讨论微纳空气沟道晶体管的基 Fowler-Nordheim(FN)方程。场发射作为一种量子
本内涵与工作机理,阐述国内外的主要研究进展, 力学现象,主要由电子隧穿势垒所驱动。在强电场
分析典型构型的微纳空气沟道晶体管的设计与工 作用下,发射极附近的真空能级发生向下弯曲,形
艺技术,最后对该器件的应用领域进行总结与展望。 成薄且低的三角形势垒,这使得电子波函数能够
隧穿势垒进入空气沟道。场发射的能带示意图如
1 微纳空气沟道晶体管的工作原理
图 1(c)所示。场发射电流的表达式为 :
[12]
微纳空气沟道晶体管的主要工作原理为:在阳 αC 1 β V 2 ( C 2 Φ d )
3/2
2
I = exp − (3)
极(及栅极)上施加偏压,在纳米尺度的空气沟道内 Φd 2 βV
产生强电场,显著降低阴极与空气界面的势垒高度; 式中:I 为发射电流;V 为外加电压;C 1 、C 2 均为
由此,阴极电子可通过热电子发射或场发射等机制, 常 数, 其 值 C 1 = e /8πh = 1.54×10 A·V ·eV, C 2 =
3
−2
−6
越过或隧穿该势垒进入空气沟道;在电场驱动下, 8π(2m) /3he = 6.83×10 V·eV −3/2 ·m ;a 为场发射面
1/2
9
−1
电子在空气沟道中输运,并最终被阳极捕获形成阳 积;β 为场增强因子;d 为沟道长度。式(3)两边取
极电流。因此,电子的发射与输运机制构成了该晶 对数可以得到 ln( I/V )和 1/V 之间的线性关系:
2