Page 40 - 《真空与低温》2025年第3期
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韩熙隆等:可集成真空微纳电子器件发展与展望                                        311


              与氢释放导致的阈值电压负移、关态漏电流增加                             备了   GaN  垂直型场发射二极管并暴露在                1.2 MeV
                                                                                                            12
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              是辐射诱导半导体器件退化的核心因素;真空沟道                            的快中子辐射中,曝光剂量分别为                  1×10 、6×10 、
                                                                                   14
                                                                                        2
                                                                    13
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              中无固态介质材料,因此无法触发电离,从根本上避                           1×10 、6×10 、1×10  n/cm 。在曝光前后,器件的
              免了电子-空穴对的形成,从而消除了陷阱电荷的                            发射电流几乎一致,拟合的             F-N  曲线斜率也并未有
              来源,且热载流子被电极快速导出,避免了能量累计                           明显的变化,表明中子辐射没有对阴极功函数以及
              以及介质损伤。在后续的一项研究中,Wei 等                    [45]  制  场增强因子产生较大的影响,如图                10 [45]  所示。


                     6                             −5                −2         2.0
                       中子剂量: 1×10  n·cm -2           中子剂量: 1×10  n·cm                               曝光前
                                                                13
                                  13
                     5    曝光前                    ]  −6   曝光前                                        曝光后
                          曝光后                            曝光后                    1.5
                     4                           (A/V 2 )  −7
                    电流/A  3 2                    [ln  −8                        电流/A  1.0
                     1                           (I/V 2 )  −9                   0.5
                     0                           ln  −10
                    −1                            −11                            0
                       −3  −2  −1  0  1  2  3          0.2   0.4   0.6   0.8       1×10 6×10 1×10 6×10 1×10 14
                                                                                                     13
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                                                                                                13
                                                                                           12
                                                                                                   −2
                                电压/V                         (1/V)/V −1                 中子剂量/(n·cm )
                         (a)曝光前后的 I-V 曲线图            (b)曝光前后的 F-N 曲线拟合图                (c)发射电流对比
                    0.8                           10 6                                           z   846.9 pm
                                        曝光前                           曝光前
                                        曝光后                           曝光后          R q =0.244 nm  y  x
                   开启电压/V 0.6                    整流比  10 5                     −0.1 nm               −957.5 pm
                                                                                0.8 nm
                    0.4
                    0.2                                                          5 μm
                                                                                   4
                                                                                     3
                                                                                                        5 μm
                     0                            10 4                                2            3  4
                                                                  13
                                                                       13
                                                             12
                                                        12
                                        13
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                               12
                                    13
                       1×10 6×10 1×10 6×10 1×10 14   1×10 6×10 1×10 6×10 1×10 14        1       2
                            中子剂量/(n·cm )                  中子剂量/(n·cm )                        1
                                                                     −2
                                       −2
                            (d)开启电压对比                       (e)整流率对比             (f)辐照后表面粗糙度 AFM 表征
                                              图  10 真空微纳电子器件抗辐照特性研究
                                    Fig. 10 Research on the radiation resistance characteristics of VMNEDs

                                                                                  [72]
                  在传统二极管、三极管的应用之外,真空微纳                          中和器阴极的主流 。而真空微纳电子器件中的
              电子器件在深空方面的应用还有另外的可能性,如                            阴极不需要高温就可以进行工作。由                    NASA  推动
              深空探索中的离子电推进技术,其基本原理是利用                            的一项研究中聚焦了通过无须推进剂的推进系统
              电能将推进剂(如氙气)电离,产生带电离子,然后                           实现在近地轨道的推进、轨道调整以及能量收集
              通过电磁场加速这些离子,从而产生推力。这一过                            能力 。其中场发射阴极作为一种可行技术探索,
                                                                     [73]
              程可以分为三个主要步骤:电离、加速和中和。电                            具有低功耗、高电流密度、长寿命以及小型化的优
              离过程将推进剂转化为带正电的离子和电子;加速                            点,适用于小型卫星推进、深空任务、碎片清除等
              过程通过电场或磁场使离子获得高速度;中和过程                            任务,但仍然需要通过长期在轨实验验证微纳器件
              则确保推进剂中的正负电荷平衡,避免电荷积累对                            的抗辐射、抗原子氧和热循环性能。同样,在                    2020 年
              推进器造成影响。其应用领域非常广泛,如深空探                            一篇聚焦于推进器的综述中,在推进器小型化一节
              测、地球轨道卫星、商业航天、空间站推进等任务。                           中也讨论了真空微纳电子器件在                  FEEP(场发射电
              而真空微纳电子器件的特性恰好可以在真空环境                             推进器)中的应用可行性及原理分析,认为现有的
              中扬长避短,在微纳集成化的基础上,其良好的抗                            阴极加工技术(双光子微影技术)仍然需要优化以
              辐射以及耐高温性能适用于太空中的恶劣环境。                             实现高深宽比的发射器流体结构,以增强流体阻力
                                                                           [74]
              自美国休斯实验室在           20 世纪   70 年代首次利用低            的调控能力 。
              功函数电子发射材料的空心阴极中和器以来,热电                                 总的来说,真空微纳电子器件尽管暂时无法在
              子发射空心阴极就成为了离子推进器放电阴极和                             传统的通信和计算领域赶超固态电子器件,但其凭
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