Page 16 - 《真空与低温》2025年第5期
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王福贞:磁控溅射镀膜技术新进展                                         555


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                  mechanical properties of CrN films fabricated by high pow-
                                                                [38]   田修波. 高脉冲磁控溅射的新进展与应用          [C]//第十六届
                  er pulsed magnetron discharge plasma ion implantation and
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              引文信息:王福贞. 磁控溅射镀膜技术新进展[J]. 真空与低温,2025,31(5):543−555.
                      WANG F Z. Advances in magnetron sputtering plating technology[J]. Vacuum and Cryogenics,2025,31(5):543−555.
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