Page 129 - 《中国药科大学学报》2025年第4期
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第 56 卷第 4 期 任怡霏,等:添加剂调控药物晶体形貌研究进展 525
晶体形貌是药物十分重要的固态性质。晶体 被广泛应用,但合理选择添加剂实现晶体形貌的
形貌会影响粉体密度、流动性、机械强度等性质, 可控调节仍然充满挑战。溶液结晶是实验室与工
还会对药物的稳定性产生影响 [1−4] 。通常针状晶体 业大生产最为常用的结晶方法,因此本文综述了
流动性差,容易堵塞设备,影响混合和压片过程; 近十年溶液结晶条件下添加剂对药物晶体形貌影
片状晶体易在过滤介质上形成不渗透层,过滤和 响研究进展,重点关注添加剂调节晶面生长作用
洗涤效率较差;块状晶体通常更容易过滤和混合, 机制,详细阐述了使用添加剂调控药物晶体形貌
[5]
是制药工业生产中较理想的晶体形貌 。此外,不 的具体案例,期望能为应用添加剂实现调控药物
同形貌的晶体还可能由于暴露晶面的丰度差异和 晶体形貌调控提供参考。
晶面的各向异性表现出溶解度与生物利用度的差
1 添加剂调控晶面生长
异,例如替格瑞洛晶型Ⅱ晶体纵横比越大,溶解度
[6]
越低 。因此,晶体形貌调控在制药领域具有十分 添加剂调控晶面生长最为主要的作用机制是
重要的意义。 影响晶体固液界面性质。台阶钉扎与扭折阻塞是
晶体形貌包括晶习和粒径:晶习是指晶体生 最重要的添加剂影响晶面生长的微观机制。台阶
长趋向形成某一种特定形态的特性,粒径指晶体 钉扎机制假设添加剂与晶面通过分子间相互作用
颗粒尺寸大小,本文主要关注晶习。晶体形貌与 钉扎在晶面,影响台阶生长,如图 2-A,ΔX 为晶面
其生长过程密切相关,由各个晶面相对生长速率 吸附的添加剂的距离,R cri t 为晶面二维成核的临界
决定 (图 1-A),因此晶体形貌调控本质上是对晶 半径,当 ΔX < 2R cri t 时,台阶无法运动,进入“死
[7]
面生长的调控。晶体生长为溶质从溶液中进入到 区”;当 ΔX > 2R cri t 时,台阶运动变慢,在添加剂周
晶面活性生长位点的动态变化过程 (图 1-B)。根 围变弯曲,因此,台阶钉扎机制通常伴随台阶边缘
[8]
据科塞尔模型,晶体表面存在平台、台阶、扭折位 粗糙 [12−13] 。而扭折阻塞机制假设添加剂可以通过
[9]
点,扭折位点是晶体生长时优先选择的结合位点 。 与生长单元竞争吸附扭折位点减慢台阶的生长速
晶体生长不仅由自身结构决定,还受结晶环境的 率,如图 2-B,扭折阻塞机制中晶面台阶生长不存
影响,例如溶剂性质、结晶温度、过饱和度等 [10−11] 。 在“死区”,台阶形貌也不发生变化 。对于通过
[14]
添加剂(或杂质)是不同于结晶溶质的组分,能够 台阶钉扎或扭折阻塞单一机制发挥作用的添加
通过影响晶面生长速率,改变晶体形貌(图 1-C)。 剂,其作用机制可以通过台阶速率与添加剂浓度
近年来,使用添加剂成为了调控晶体形貌的有效 (图 2-C)或溶质浓度(图 2-D)的关系以及原子力显
策略,在食品、精细化工、含能材料、制药等领域 微镜拍摄的台阶形貌判断。
A A
A
A C
v A >v B v A <v B
B B B B B B
A
A
A
抑制剂
生长单元
B 3
1
台阶
扭折 2
台阶
平台
扭折
图 1 晶面生长决定晶体形貌
A:晶面相对生长速率决定晶体形貌;B:晶体生长过程:溶液中生长单元扩散到晶面平台后再移动到扭折位点(①−②);溶液中生长单元直接结
合到扭折位点(③);C:添加剂抑制特定晶面生长改变晶体形貌。

