Page 28 - 《摩擦学学报》2021年第2期
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第 2 期                柴利强, 等: γ辐照对a-C: H薄膜微观组织、力学性能及摩擦学性能的影响                                  173

                                                                     1.3
             (a)                    (b)
                                                                     1.2
                                                                    Internal stress/GPa  1.1



                                                                     1.0

                               2 nm                  2 nm            0.9      Pristine         13.5 MGy


             Fig. 4    TEM micrographs of the pristine (a) and irradiated a-  0.8
                                                                        0          5         10        15
                        C:H films at 13.5 MGy dose (b)                           Irradiation dose/MGy
             图 4    原始a-C:H薄膜(a)和13.5 MGy剂量辐照的a-C:H薄膜
                              (b)的TEM形貌                          Fig. 6    Internal stress of the a-C:H films with respect to
                                                                                irradiation dose
                                                                   图 6    a-C:H薄膜随辐照剂量增加的应力变化图示
                                                    110
                15  6 5  Pristine
                        13.5 MGy
                          Recorvery rate:
                14  4   Recorvery rate:             105        随辐照剂量的增加,薄膜应力呈现逐渐增加的趋势.
                            81.17%
                13  Load on sample/mN  3 2  85.61%  100        当辐照剂量大于5 MGy时,薄膜的残余应力达1.1 GPa.
                Hardness/GPa  12  1 0 0  50  surface/nm 150  200  95 Young′s modulus/GPa  而当辐照剂量进一步增加,薄膜残余应力逐渐趋于稳
                            100
                 11
                                                               定. 该结果说明γ辐照处理使得的a-C:H薄膜的残余应
                         Displacement into
                10
                 9             H/E  Pristine 1 MGy  5 MGy 10 MGy 13.5 MGy  90  力增大. 这也与辐照改变薄膜内C原子的化学状态有
                                                                                    3
                                                               直接关系. 碳基薄膜内sp 含量越多,薄膜的残余应力
                                                    85
                                     0.105
                                  0.104
                                        0.111
                                               0.142
                                            0.124
                               H 3 /E 2  0.097  0.097  0.122  0.177  0.293
                 8                                             越大  [26] . 此外,由图6内的插图可知,当辐照剂量达
                    0         5         10        15
                             Irradiation dose/MGy              13.5 MGy剂量时,由于应力的释放,薄膜内部出现局

             Fig. 5    Mechanical properties and displacement-load curves  部剥落现象. 这意味着辐照后的薄膜具有比测试获得
                              of a-C:H films                   的应力值更大的应力,由于残余应力大于薄膜与基体
             图 5    a-C:H薄膜随辐照剂量变化的硬度、弹性模量及位移-                 间结合力,辐照薄膜通过局部脱落的方式释放了部分
                                载荷曲线
                                                               应力. 这也说明薄膜在高剂量下辐照时,应力达到稳
            原始样品经压入卸载后的恢复量为81.17%,而辐照样                         定的现象是一种假象. 过多的应力已经通过薄膜局部
            品的压入卸载恢复量为85.61%. 辐照薄膜样品展现出                        剥落而释放.
            更高的弹性恢复能力. 此外,辐照前后a-C:H薄膜的                             为了揭示a-C:H薄膜的摩擦学特性与γ辐照剂量
                     2
                   3
            H/E和H /E 比值也在图5中列出. 随辐照剂量的增加,                      的关系,对不同剂量下辐照的样品进行球-盘模式的
                   3
                     2
            H/E和H /E 比值整体显示出递增的变化趋势. 一定程                       摩擦学试验. 试验选用φ6 mm的Si Ni 陶瓷球做为摩
                                                                                             3  4
                                 2
                               3
            度上,薄膜的H/E和H /E 比值和薄膜的刚度和韧性相                        擦对偶材料,采用往复运动摩擦方式,载荷为8 N,频
                                                 [23]
            对应,可分别用于评价薄膜的韧性和刚度 . 这意味                           率6 Hz. 图7(a)所示为辐照样品随辐照剂量变化的摩
            着γ辐照也使得a-C:H薄膜的刚度和韧性增加. 上述结                        擦系数曲线. 原始样品的稳定阶段摩擦系数为0.02,随
            果表明在辐照剂量范围内,γ射线使得a-C:H薄膜的力                         辐照剂量的增加,摩擦系数呈增加趋势. 当辐照剂量
            学性能均增加. 这一现象与γ辐照使得薄膜内sp 原子                         达13.5 MGy时,薄膜稳定阶段的摩擦系数为0.05. 这
                                                     2
                    3
            结构向sp 原子结构转变有直接关系. 非晶碳基薄膜的                         表明在辐照剂量范围内,a-C:H薄膜的摩擦性能高度
              2
            sp 杂化键结构中由于存在键强较弱的π键,对薄膜的                          依赖于辐照剂量变化,随辐照剂量增大,薄膜的摩擦
                                             3
            机械性能有较低的贡献,而薄膜内的sp 杂化键结构之                          系数呈增加趋势. 图7(b)所示为辐照样品随辐照剂量
            间以强共价键三维交联存在,且高度扭曲,对薄膜的                            变化的体积磨损率(ω). 随辐照剂量的增加,ω从原始
                                                                            −8
                                                                                 3
                                          3
            机械性能有决定性作用. 薄膜内sp 增加,薄膜的硬度                         样品的2.43×10  mm /(N·m)增加为经13.5 MGy剂量
                                                                                  3
            和弹性模量均升高        [24-25] .                          辐照后的5.95×10  mm /(N·m),这表明a-C:H薄膜的磨
                                                                              −8
                图6所示为非晶碳薄膜样品随γ辐照剂量增加的                          损率变化规律和摩擦系数一致,随辐照剂量的增加同
                                                                                                        3
            应力变化曲线. 原始a-C:H薄膜的压应力为0.86 GPa.                    样呈上升趋势. 干燥大气环境下,a-C:H薄膜内sp 的增
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