Page 53 - 《真空与低温》2026年第1期

50 真空与低温 第 32 卷 第 1 期

辑层、设备驱动层、核心管理与 IO 层），结合 MVVM 系统整体运行稳定可靠，满足高精度、高效率光学
模式与 WCF 通信，构建了高内聚、低耦合的控制 零件修形的工艺需求。
系统。该系统成功集成射频电源、离子光学电源、
参考文献：
中和器直流电源与气路控制器四大功能模块，形成
闭环反馈，为工艺自动化与稳定性提供了坚实基础。 [1] 许沭华，任兆杏，沈克明，等. 射频 ICP 离子源设计研究 [J].
（3）通 过 实 验 验 证 ， 实 验 测 得 束 径 均 值 为 真空科学与技术，2002，22（4）：310−312.
8.37 mm，满足≤Φ10 mm 的要求，表明离子源具备 [2] 刘金声. 离子束技术及应用 [M]. 北京：国防工业出版社，
良好的束流聚焦能力；8 h 内体积去除率波动仅为 1995.
0.33%，远优于≤5% 的设计目标，证明系统具备优 [3] 周林. 光学镜面离子束修形理论与工艺研究 [D]. 长沙：国
异的长期时序稳定性；体积去除率均值达 9.40× 防科技大学，2008.
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10 mm /min，大幅超越 6×10 mm /min 的基本指标， [4] 王登峰. 光学镜面离子束抛光系统工艺参数研究 [D]. 长沙：
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加工能力高效。 国防科技大学，2007.
（4）在极限压力为 4.0×10 Pa、工艺室真空压 [5] 解旭辉，谷文华，周林. 应用细小离子束加工小型精密光学
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力为 1.2×10 ~1.3×10 Pa 的环境中，离子源成功在 零件 [J]. 国防科技大学学报，2009，31（4）：10−14.
单晶硅基片上制备出重复性良好的去除函数斑点， （责任编辑：郭 云）

引文信息：袁祖浩，王建青，成东明，等. 面向离子束抛光的聚焦型射频离子源研制[J]. 真空与低温，2026，32（1）：44−50.
YUAN Z H，WANG J Q，CHENG D M，et al. Development of a focused RF ion source for ion beam figuring[J]. Vacuum
and Cryogenics，2026，32（1）：44−50.