Page 49 - 摩擦学学报2025年第8期
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第 8 期              孟维晟, 等: 遥爪型全氟聚醚自组装膜的表面性能及抗磨损和抗腐蚀性能研究                                     1147


                  (a)                                                (b)












                                               100 μm                                           50 μm


                  (c)                                                (d)













                                               100 μm                                           50 μm

                       Fig. 9    Surface wear and SEM micrographs of PFSi with a concentration of 1% at (a, b) 3 000 times and
                                                      (c, d)10 000 times
                           图 9    质量分数为1%的PFSi在(a, b) 3 000次和(c, d) 10 000次的表面磨损情况和SEM照片



                                    Load



                                Steel wool




                              Si                               Si                             Si
                                       Fig. 10    The effect of wear on the surface structure of PFSi
                                            图 10    磨损对PFSi表面结构影响的示意图

                                                               的耐蚀性能. 使用电化学工作站在3.5%NaCl溶液中测

                                         1.00%
                                         0.75%                 试空白铜片与表面生长PFSi的铜片的防腐蚀性能. 以
                                         0.50%
                                         0.25%                 铜片为工作电极,铂为对电极,Ag/AgCl电极(饱和KCl)
                   Intensity/a.u.                              的电化学阻抗与Tafel曲线,测量阻抗的频率范围为
                                                               为参比电极. 当开路电位处于平稳状态时,测量电极

                                                                 −2
                                                                     4
                                                               10 ~10  Hz,信号振幅为2 mV,Tafel极化曲线的扫描
                                                               速率为2 mV/s.
                                                                   图12(a)所示为空白铜片与生长有PFSi铜片在腐
                   10    20     30     40    50     60         蚀环境下的Tafel极化曲线. 空白铜片的腐蚀电位为
                                  2θ/(°)
                                                               0.123 V. 比较而言,生长有PFSi的铜片的腐蚀电位提
               Fig. 11    XRD of PFSi self-assembled films at different
                              concentrations                   高至0.174 V,表明PFSi使铜片具有较低的腐蚀倾向.
                  图 11    不同质量分数下PFSi自组装膜的XRD                  此外,对比空白铜片,生长有全氟聚醚膜的铜片的腐
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