Page 48 - 摩擦学学报2025年第10期
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第 10 期            关健, 等: 不同表面处理20CrMo与GCr15配对摩擦副的极端工况摩擦学行为研究                                1445

            载荷与额定载荷(赫兹接触压应力2 GPa)下的摩擦磨                         深度处硬度值达到最大. 3种热处理后的20CrMo盘的
            损行为,以深入理解不同摩擦副材料在极限条件下的                            不同深度位置的金相组织的观察结果如图3所示. 渗
            磨损机理. 本研究旨在通过对20CrMo材料进行上述                         碳+2次淬火处理后的20CrMo,表面和芯部由碳化物、
            3种表面处理,以提升耐磨性能,并通过系统表征与分                           马氏体和残余奥氏体组成,由于经历2次淬火,奥氏体
            析,揭示磨损机理. 研究成果有望为精密减速机齿轮                           向马氏体转化,也提高了材料的硬度;对于碳氮共渗

            的设计提供一定的参考和指导.                                     处理的20CrMo材料,表面出现了氮化物和残余奥氏
                                                               体,芯部产生了明显的铁素体和珠光体;经过高浓度
             1    试验部分                                         碳氮共渗处理的20CrMo材料,表面形成了细化的针

             1.1    试剂和仪器                                      状氮化物,有助于提升表面的耐磨性,芯部同样产生
                试验采用了美国CETR公司生产的UMT-5多功能                       了铁素体和珠光体. 试验中所用的润滑脂从日本纳博
            摩擦磨损试验机来评估不同摩擦副的摩擦磨损结果,该                           特斯克株式会社采购,牌号为RV-LB00. 润滑脂的流
            试验机可实现-80~1 000 ℃的温度范围. 试验中的GCr15                  变特性曲线如图4所示,为保证测试结果的可靠性,流
            钢球是从上海钢球厂采购,硬度61 HRC~64 HRC,直                      变特性曲线需测试3次取平均值.
            径为4 mm. 20CrMo圆盘由日本捷泰格特株式会社提                           完成摩擦磨损试验后的试件,采用基恩士VHX-
            供,圆盘直径为53 mm,厚度为6 mm. 20CrMo盘的3种                   6000光学显微镜进行磨痕的二维形貌观察;磨痕的三
            热处理方式分别为渗碳+2次淬火、碳氮共渗和高浓                            维形貌和磨损体积通过翟柯莱姆达(上海)公司生产的
            度碳氮共渗,热处理后20CrMo盘表面经过研磨和抛                          ZYGO三维白光干涉仪进行观察和计算;磨损区域微
            光,3种20CrMo盘表面粗糙度R 分别为0.093、0.095、                  观形貌和化学成分表征通过FEI Quanta 200 FEG场发
                                        a
            0.099 μm,如图1所示. 在本文中的分析中,GCr15-                    射环境扫描电子显微镜完成,该显微镜包括EDS能谱
            20CrMo(渗 碳 +2次 淬 火 )、 GCr15-20CrMo  (碳 氮 共         仪. 结合这些分析仪器,可以对摩擦副材料磨损后的
            渗)和GCr15-20CrMo (高浓度碳氮共渗) 3组摩擦副配                   微观表面进行全面的观测,评估不同摩擦副的摩擦磨
            对材料分别简称为FP1、FP2和FP3. 经过不同热处理                       损性能.
            后20CrMo盘深度方向的硬度分布结果如图2所示.                           1.2    试验方法
            20CrMo盘硬度是在Qness 60A+显微硬度计上采用5 N                       采用UMT-5摩擦磨损试验机在100 ℃高温环境下
            加载载荷测试得到,为保证测试结果的可靠性,硬度                            进行GCr15-20CrMo摩擦副的摩擦磨损试验,摩擦磨
            需测试3次取平均值. 图2结果表明,20CrMo盘经过渗                       损试验装置如图5(a)所示. 图5(b)所示为摩擦磨损试验
            碳+2次淬火处理后,在深度方向上的硬度大于其他                            的加载工况,其中高载荷工况下摩擦副最大赫兹接触
            2种热处理后圆盘的硬度. 经过碳氮共渗工艺处理后,                          压应力为4 GPa,对应UMT-5试验机加载为103 N,额
            20CrMo盘的硬度随着深度值的增加大幅下降,在达                          定载荷工况的摩擦副最大赫兹接触压应力为2 GPa,
            到0.8 mm深度后趋于稳定. 采用高浓度碳氮共渗后,                        对应UMT-5试验机加载为13 N. 摩擦副最大赫兹接触
            20CrMo盘的硬度随深度加深先增大后减小,在0.4 mm                      压应力由减速机有限元模型仿真得到,如图6所示,模


                                       Z/μm                            Z/μm                             Z/μm
                                                                                                          0.4
                                         0.4                             0.4                              0.2
                                                                         0.2
                                         0.2                                                              0.0
                                                                         0.0                              −0.2
                                         0.0
             0                               0                           −0.2  0                          −0.4
             200                    800  −0.2  200                  800  −0.4  200                   800  −0.6
               400                600          400               600     −0.6  400                600     −0.8
                               400       −0.4                  400                             400        −1.0
                 600             X/μm         Y/μm 600           X/μm         Y/μm 600           X/μm
              Y/μm
                            200                            200           −0.8               200           −1.2
                    800                  −0.6       800                             800
                        0                               0                               0
                  (a) R a  = 0.093 μm             (b) R a  = 0.095 μm             (c) R a  = 0.099 μm
                                Fig. 1    The surface micrographs of the 20CrMo disk: (a) FP1; (b) FP2; (c) FP3
                                       图 1    20CrMo盘表面形貌照片:(a) FP1;(b) FP2;(c) FP3
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